2003年 6月 4日 | ||||
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オリンパス光学工業株式会社 ( 社長:菊川 剛 ) は、従来の赤外線顕微鏡では困難であった FCB *1 後のICチップパターン及びその接合部や、MEMS *2 内部構造などを、ハイコントラストな画像で観察でき、赤外線を用いた三次元形状測定を可能とした「走査型共焦点光学系 *3 を用いた赤外線顕微鏡の光学技術」を開発しました。今後さらに技術をブラッシュアップし社内実績を高めた上で、2004年末までに携帯電話やノートパソコン等の情報機器分野メーカーなどへの発売を目指します。 | |||||||
当技術は、「光ナノテクフェア2003」の「実務応用セミナー」の一プログラムとして、6月12日(木) 12:45 - 13:20 に「赤外線レーザ顕微鏡による電子部品内部の非破壊検査」と題してプレゼンテーションされます(●会場:パシフィコ横浜 展示場2F E-206号室 ●定員:50名 先着順、無料)。 | |||||||
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主な特長の概要 | ||
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市場導入の背景 | ||||||||
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主な特長の詳細 | |||||||||||||||||
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当光学技術の主な仕様 | |||||||
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オリンパス光学工業株式会社は、2003年10月1日をもってオリンパス株式会社と社名変更いたしました。
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