オリンパス株式会社（社長：菊川　剛）は、半導体検査・解析のニーズに合わせて二種類のコントローラから選択可能という業界初^※1の新コンセプトに基づいて開発された300mmウエハ対応の半導体自動検査顕微鏡「MX61A」を7月25日に国内で発売します。「MX61A」は当社の半導体検査顕微鏡「MXシリーズ」の最上位機種で、顕微鏡観察に必要な操作の自動化・電動化を追求しつつ、「検査」と「解析」のそれぞれのニーズに対応する柔軟性と優れた拡張性を備えています。また、新しい光学系「UIS2^※2対物レンズ」の搭載により暗視野観察時の明るさが当社従来モデル比約4倍となり、欠陥検出能力が向上したほか、新開発のアクティブAF（オートフォーカス）の採用により、検査・解析作業の効率化を実現しています。

＊1	2007年7月12日現在。当社調べ
＊2	UISは「Universal Infinity System」の略で、高解像度でシステムの拡張性に優れていることなどが特長の当社の無限遠補正光学系の総称。

発売の概要

製品名	発売日
半導体自動検査顕微鏡「MX61A」	2007年7月25日

主な特長の概要

1. 検査ニーズと解析ニーズに合わせて二つのコントローラから選択可能
2. 新光学系「UIS2対物レンズ」の搭載による欠陥検出能力の向上
3. 自動調光、電動微分干渉観察、マルチスポット方式のアクティブAFなど、検査・解析作業の効率化を実現
4. ウエハ自動搬送装置、電動ステージ、デジタルカメラ、深紫外線観察システムなど多彩な拡張性

開発の背景

1996年より販売開始した当社の半導体検査顕微鏡「ＭＸシリーズ」は、大型化するウエハ、微細化する半導体の観察に優れた光学性能と操作性で貢献し、市場から高い評価を得てきました。半導体デバイス産業では、近年お客様の技術の進化により、顕微鏡に求められる観察方法も、お客様ごとにカスタマイズすることが求められています。さらに、生産現場でも研究開発でも、高い光学性能はもちろんのこと、再現性の高い電動タイプの光学顕微鏡が求められています。このたび開発した「ＭＸ61Ａ」は、ＭＸシリーズの最上位機種として、検査・解析用途においてさらなる微細化・多様化へと進む市場ニーズに応えるために、顕微鏡操作部やAFの電動化をはじめ、電動深紫外線観察システム、オートステージなどを柔軟に組み合わせることのできる光学顕微鏡システムとなっています。

主な特長の詳細

1．検査ニーズと解析ニーズに合わせて二つのコントローラから選択可能
半導体分野の検査・解析を、その現場のニーズに即した自動化ができるように、「Inspection-Engine」と「Analysis-Engine」の二つのコントローラをラインアップしました。進化し続ける検査ニーズに応える「Inspection-Engine」は、その中核の「オペレーションユニット」がシステム全体を制御し、対物レンズの倍率変換、観察法の切り替えに連動した明るさ絞り、AFの制御、対物レンズ間の同焦補正、微分干渉時のコントラストなどの最適な観察条件をタッチパネル操作で設定できます。エンジニア（管理者）がオペレーションユニットで設定した観察条件はいつでも呼び出すことができ、複数のオペレータ（観察者）で共有も可能です。
また、高度化する解析ニーズには「Analysis-Engine」が対応します。柔軟性に優れた「顕微鏡制御ソフトウェア」の採用により、顕微鏡操作だけでなくデジタルカメラ、電動ステージなどの周辺機器の制御も可能です。また、従来複数の操作を必要とした高度な観察法、紫外線観察などへの切り替えもワンクリックでスムーズに行えます。

2．新光学系「UIS2対物レンズ」の搭載による欠陥検出能力の向上
厳選されたエコガラスを使用した、新光学系「UIS2対物レンズ」の搭載により、全ての顕微鏡観察法において標本に忠実な色再現性を実現しています。また、暗視野観察時の明るさが当社従来モデル比約4倍となったことにより、欠陥検出能力が大幅に向上しています。

3．自動調光、電動微分干渉観察、マルチスポット方式のアクティブAFなど、検査・解析作業の効率化を実現
対物レンズの倍率指定と観察法切り替えに連動した最適な明るさ・コントラストへの自動調光のほか、微分干渉ユニットではコントラストの指定が電動にて可能です。また、AFは、可視観察対応と深紫外線観察対応のマルチタイプの2種類を用意しました。合焦精度・合焦速度に優れたアクティブAFをさらに進化させたマルチスポット方式のセンサの採用により、合焦時の安定性が向上しました。自動化・電動化、AFの徹底追求により、検査・解析作業のスピードアップと疲労軽減が図れます。

4．ウエハ自動搬送装置、電動ステージ、デジタルカメラ、深紫外線観察システムなど多彩な拡張性
ウエハ検査を効率化するウエハ搬送装置と電動ステージの組み合わせ、デジタルカメラを経由してモニタ観察しながら画像記録が可能なデジタルイメージングシステム、フルオート制御を可能にした深紫外線観察システムなど、多彩な拡張性により、さまざまなニーズに最適なソリューションを提供します。

「MX61A」の主な仕様

光学系	UIS2（UIS）光学系システム（無限遠補正）
照明系	落射照明系（視野数26.5） 12V100Wハロゲンランプ（プリセンタ方式） 明視野・暗視野ミラー＋1ミラーユニット（※オプション）電動切換方式 ※任意の観察キューブを追加可能 電動開口絞り内蔵（対物レンズ毎プリセット、暗視野時自動解放） 可能観察法 (1)落射明視野　(2)落射暗視野　(3)落射微分干渉　(4)落射簡易偏光　(5)落射蛍光　(6)落射IR　(7)DUV観察 *(3)(4)(5)は別途専用のオプションミラーユニットが必要。 (7)はDUVユニット組み合わせ時。ただし、PC仕様となります。他の観察と併用の時はご相談ください。
鏡筒	超広視野正立ティルティング三眼鏡筒（視野数26.5） MX-SWETTR (光路分割比率　100:0、0:100、ティルティング傾斜角度　0°-42°） U-SWETTR-5 (光路分割比率　100:0、20:80、ティルティング傾斜角度　0°-35°） 赤外用広視野三眼鏡筒（視野数22） U-TR30IR 近赤外線観察時に使用。
電動レボルバ	明・暗視野微分干渉6ヶ穴電動レボルバ：U-D6BDREMC 明・暗視野微分干渉5ヶ穴電動レボルバ：U-D5BDREMC
コントローラ	オペレーションユニット MX-OPU61A 制御ソフト内蔵液晶タッチパネル方式 顕微鏡の各種操作、観察条件設定が可能 ハンドスイッチ MX-HS61A 顕微鏡の各種操作が可能（1JOG焦準ハンドル＋14操作ボタン） ソフトウェア MX2-BSW（PC使用時） MX61Aおよび周辺電動ユニットを制御するためのアプリケーションソフトウェア コンピュータ環境 OS（WindowsXP Professional） CPU（Pentium4, 2GHz以上） メモリ（512MB以上）
ステージ	共軸右下ハンドル14×12インチ（300mmウエハ対応）ステージ MX-SIC1412R2 共軸右下ハンドル8×8インチ（200mmウエハ対応）ステージ MX-SIC8R 駆動方式：ローラガイド式スライドベルト駆動（ラックレス）　 クラッチ機構：2枚のクラッチ板（グリップクラッチによるベルト挟み込み・解除方式） ストローク：MX-SIC1412R2 横356×縦305mm/ MX-SIC8R 横210×縦210mm 電動ステージ 仕様：300mm・200mmウエハ対応
外形寸法・ 質量	300mm標準ステージ搭載時の標準オートフォーカス仕様。カメラ・オプションユニットを含まない。 寸法：711（W）×853（D）×552（H） 質量：約56kg（鏡体：約31kg）